Efectos de la temperatura y tiempo en el depósito de películas delgadas de ZnO por baño químico para aplicaciones fotocatalíticas

Abstract

Se depositó ZnO en películas delgadas por medio baño químico para su optimización, experimentando con las variables tiempo y temperatura, las temperaturas de síntesis se realizaron en el rango de temperatura de 50 C hasta 80 C y las de tiempo desde 1 hasta 6 horas. Determinando que en 70 ºC y 2 horas se encuentra ZnO en puro en su fase hexagonal. Los depósitos se caracterizaron por medio de los equipos de Difracción de Rayos X (DRX), Microscopio de Fuerza Atómica (MFA) y Electroscopia Ultravioleta-Visible (UV-Vis). La actividad fotocatalítica de los fotocatalizadores de ZnO se investigaron evaluando la degradación de azul de metileno (AM) en solución, bajo irradiación UV. Comparando el deposito de ZnO puro con los demás donde había presencia de Hidroxido de Zinc, este último redujo las cantidades de AM en un 100% en 240 minutos mientras que el ZnO puro logró un 79%. It was possible to optimize the deposition of ZnO by chemical bath in thin films, finding the temperature relationship taken from 50 ºC to 80 ºC and the time relationship which was from 1 hour to 6 hours, determining that at 70 ºC and 2 hours, ZnO is found in its pure hexagonal phase. Depositions were characterized by X-ray Diffraction (XRD), Atomic Force Microscope (AFM) and Ultraviolet-Visible Electroscopy (Uv-VIS) and the photocatalytic activity of the pure ZnO photocatalysts was investigated by evaluating the degradation of methylene blue (MB) in solution, under UV irradiation. Comparing the pure depositions of ZnO with the others where Zinc Hydroxide was present, the latter reduced the MB amounts by 100% in 240 minutes, while the pure ZnO achieved 79%.